Titanium forjando el objetivo redondo

Titanium Target es el producto del titanio de alta pureza después del procesamiento y está hecho de película delgada por deposición física de vapor. Utilizado como una capa de barrera para cables de aluminio en chips semiconductores.

1. Requisitos principales de rendimiento del Titanium Target

(1) Calidad de apariencia: antes de salir de la fábrica, el objetivo de titanio debe limpiarse sin polvo y la superficie debe estar limpia. Después de terminar la superficie del objetivo de titanio, la rugosidad de la superficie debe cumplir con los requisitos de los clientes.

(2) Defectos internos: no debe haber inclusiones, poros, grietas y otros defectos dentro del objetivo de titanio.

(3) Composición: el objetivo de titanio se divide en un objetivo de titanio puro y objetivo de aleación, objetivo de aleación, incluido el objetivo de aleación de aluminio de titanio, objetivo de nitruro de titanio, objetivo de boruro de aleación de titanio, etc. La pureza del material objetivo es 99.9%-99. 999%.

(4) Tamaño de grano: los granos objetivo de titanio son uniformes y finos, y el grano promedio generalmente se controla para que sea inferior a 50 μm.

(5) Textura: la orientación cristalina del objetivo de titanio<002>se prefiere, y mayor o igual al 35%.

(6) Tamaño geométrico: el tamaño del objetivo de titanio varía según los requisitos de uso, y el diámetro es generalmente 200-460 mm.

Los objetivos de titanio se pueden dividir en objetivos de titanio individuales y objetivos de titanio soldados de acuerdo con su estructura. El objetivo de titanio único no necesita ser soldado y el procesamiento de tocho está integrado. El objetivo de titanio soldado es soldar el blanco de titanio en blanco con el plano posterior, los métodos de soldadura comunes incluyen soldadura por soldadura y difusión. Los materiales del plano posterior de soldadura incluyen placa posterior de aleación de cobre y cobre, aluminio y aleación de aluminio, etc. Después de la soldadura, se realiza la detección ultrasónica para garantizar que la conexión entre el objetivo y el plano posterior tenga una cierta resistencia de unión para evitar problemas como la caída y el agrietamiento durante la espalda. La tabla 9-23 describe los requisitos de calidad de soldadura para los objetivos de titanio.

2. Preparación de Titanium Target

El objetivo de titanio puro se prepara generalmente mediante el proceso de presión en caliente de la fundición de lingote. El objetivo de aleación de titanio fue preparado por metalurgia en polvo.

El proceso de presión en caliente se basa en el lingote de titanio de alta pureza obtenida de la fusión. La microestructura y la forma y el tamaño del tocho se controlan por falsificación, rodamiento, recocido y otras tecnologías de procesamiento de plástico, y luego el tocho se mecaniza para obtener el objetivo de titanio. Después del proceso de forja, rodamiento y recocido, el objetivo de titanio tiene un grano fino y uniforme y una textura superior, que puede cumplir con los requisitos del objetivo de titanio en el proceso de pulverización. La pérdida en el procesamiento de lingotes de fundición es grande, incluida la pérdida en el proceso de fundición de fusión, la pérdida en el proceso de forja y rodamiento porque la cáscara de óxido debe girarse y la pérdida en el procesamiento de corte también está presente, por lo que la tasa de utilización final es de aproximadamente el 80%.

Para TIB2, TIAI y otros objetivos de aleación, es fácil de agrietarse durante la forja, y es más adecuado para el procesamiento de metalurgia en polvo, es decir, el polvo de titanio y los aditivos se usan como materias primas, a través del proceso de mezcla de polvo, y luego el tocho se procesa con presión de presión isostática en caliente o una fuerza de presión isostática en caliente, y luego se obtiene la aleación de la aleación. La metalurgia en polvo es el método preferido para preparar objetivos de aleación de titanio porque puede formarse en blanco a la vez, tiene una alta tasa de utilización de materiales y puede agregar fácilmente elementos de aleación. Los problemas de la metalurgia en polvo son la pureza del material, la uniformidad de la composición de la aleación y la densidad. Los defectos internos del material y otros aspectos de los requisitos de control son altos.

El principio de funcionamiento de los objetivos de titanio está relacionado con una serie de reacciones físicas y químicas y se usa ampliamente en la deposición física del vapor (PVD), incluida la pulverización de magnetrón, la chancro de haz de iones y otros métodos. En estos métodos, los objetivos de titanio son una materia prima clave.

 

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